年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（নাইট্রোজেন ট্রাইফিউরাইড
在微电⼦⼯业中,三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体,在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓住協刻⽓体可清洗剂。 它还可以⽤于⾼能化学激光器,通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来垮应⽤. 三氟化氮还可⽤作⾼能燃料,并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剂使。

নাইট্রোজেন ট্রাইফ্লুরাইড, রাসায়নিক সূত্র NF3, একটি শক্তিশালী অক্সিডাইজিং এজেন্ট। একটি গুরুত্বপূর্ণ শিল্প বিশেষ গ্যাস হিসাবে, এটির বিস্তৃত অ্যাপ্লিকেশন রয়েছে।
মাইক্রোইলেক্ট্রনিক্স শিল্পে, নাইট্রোজেন ট্রাইফ্লুরাইড একটি চমৎকার প্লাজমা এচিং গ্যাস; সেমিকন্ডাক্টর চিপ, ফ্ল্যাট প্যানেল ডিসপ্লে, অপটিক্যাল ফাইবার, ফটোভোলটাইক কোষ এবং অন্যান্য উত্পাদন ক্ষেত্রে, নাইট্রোজেন ট্রাইফ্লোরাইড প্রধানত প্লাজমা এচিং গ্যাস এবং প্রতিক্রিয়া গহ্বর পরিষ্কার এজেন্ট হিসাবে ব্যবহৃত হয়।
হাইড্রোজেনের সাথে বিক্রিয়া করে তাত্ক্ষণিকভাবে প্রচুর পরিমাণে তাপ নির্গত করে এর প্রয়োগ অর্জন করতে এটি উচ্চ-শক্তির রাসায়নিক লেজারগুলিতেও ব্যবহার করা যেতে পারে। নাইট্রোজেন ট্রাইফ্লুরাইড একটি উচ্চ-শক্তি জ্বালানী হিসাবে এবং রকেট উৎক্ষেপণে একটি অক্সিডাইজার এবং প্রপেলান্ট হিসাবেও ব্যবহৃত হয়।